清洗方法 一RCA清洗RCA 由Werner Kern 于1965年在 的RCA 实验室首创， 并由此得名RCA 清洗是一种典型的湿式化学清洗RCA 清洗主要用于清除有机表面膜粒子和金属沾污1颗粒的清洗 硅片表面的颗粒去除主要用APM 也称为SC1 清洗液NH4OH + H2O2 + H2O 来清洗在。