硅片清洗剂是针对性去除硅片表面的颗粒有机物金属离子等污染物的水基清洗剂，清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，能有效提高外延或扩散；硅片清洗剂广泛应用于光伏，电子等行业硅片清洗由于硅片在运输过程中会有所污染，表面洁净度不是很高，对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大的影响，所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作清洗的一般思路首先是去除表面的有机。

硅片清洗的试剂及作用

2作用氢氧化钾主要被用于干燥剂，吸收剂，氢氧化钠广泛用于粘胶纤维，人造丝及绵织品等轻纺工业，硅片清洗剂用氢氧化钾好。

硅片清洗剂具有以下优点清洗彻底，并且清洗后不会在硅片表面留下残留 清洗后不会对硅片材质产生损伤 硅片清洗剂本身化学性质稳定，安全环保 这种清洗剂调配的槽液易维护，并且易漂洗。

半导体硅片清洗剂怎么用

1、盐酸是化学工业重要原料之一，广泛用于化工原料染料医药食品印染皮革制糖冶金等行业，还用于离子交换树脂的再生以及电镀金属表面的清洗剂。

2、硅片清洗剂a剂b剂作用区别1a剂主要有钾盐缓蚀剂助洗剂组成，b剂主要由表面活性剂聚合复配而成2晶线切割后的硅片表面清洗处理，能有效地清除硅片，表面的污染物，使硅片表面洁净如一。

3、硅片清洗剂属于危险品清洗剂中含有甲苯丙酮甲醇酸碱类物质或者是溶剂类的易燃物质，这属于危险品中的易燃液体，具有挥发性，保存的时候必须特别注意。

4、1颗粒的清洗 硅片表面的颗粒去除主要用APM 也称为SC1 清洗液NH4OH + H2O2 + H2O 来清洗在APM 清洗液中，由于H2O2的作用，硅片表面有一层自然氧化膜SiO2 ， 呈亲水性， 硅片表面和粒子之间可用清洗液浸透。